藍寶石拋光液磨料粒徑、濃度及流速的影響 研究表明，在其它條件相同情況下, 隨著藍寶石拋光漿料濃度的增大, 拋光速率增大。對于粒徑為80nm的研磨料: 藍寶石拋光液的質量分數為10% 時, CMP去除速率為572.2nm /m in; 而隨著質量分數增大至15%時,CMP去除速率增大至598.8nm/min; 質量分數繼續(xù)增大至20% 時, CMP去除速率則增大至643.3nm/min。